Transferência deferida
#25.1
10/15/2019
RPI 2545
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Official data from INPI
UTILIZAÇÃO COSMÉTICA DE MICROORGANISMO PROBIÓTICO E PROCESSO DE TRATAMENTO COSMÉTICO PARA PREVENIR E/OU TRATAR DERMATITE IRRITANTE DE CONTATO NÃO ALÉRGICA
Em AnáliseInvention Patent
Application data
Number
PI1000537Type
Invention Patent
Filing
03/04/2010
Publication
03/22/2011
Progress at the INPI
- Filing03/04/10
- Publication03/22/11
- Examination
- Allowance07/18/17
- Grant10/10/17
- In force03/04/30
The patent was granted on 10/10/2017 and is in force until 03/04/2030. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:03/04/2030
Latest action published by the INPI: 10/15/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
L'Oreal
FR
NESTEC S.A.
CH
SOCIÉTÉ DES PRODUITS NESTLÉ S.A.
CH
Inventors
A. G. (pessoa física)
FR
Technical data
IPC Classification
Priority claims
FR
09 51362 · 03/04/2009
US
61/202627 · 03/19/2009
Abstract
UTILIZAÇÃO COSMETICA DE UMA QUANTIDADE EFICAZ DE, PELO MENOS UM MICROORGANISMO PROBJÓTICO E PROCESSO DE TRATAMENTO COSMETICO PARA PREVENIR E/OU TRATAR ASPERTURBAÇÕES CUTÂNEAS DE TIPO IRRITAÇÃO A presente invenção refere-se à utilização cosmética de uma quantidade eficaz de, pelo menos, um mieroorganismo probjótico notadamente do género Lactobacilius sp. e/ou Bifidobaeterium sp., de uma de suas frações e/ou de um de seus metabólitos, a título de ativo para limitar uma irritação cutânea.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Concessão da patente
#16.1
10/10/2017
RPI 2440
Deferimento
#9.1
07/18/2017
RPI 2428
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
04/04/2017
RPI 2413
Republicação - classificação IPC
#15.11
As Classificações Anteriores eram: A61K 8/99 , A61Q 19/00 , A61K 35/74 , A61P 17/00 , A61P 17/16
10/25/2016
RPI 2390
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
10/25/2016
RPI 2390
Pedido suspenso — exigência de documentos
#6.6
12/26/2012
RPI 2190
Publicação do pedido de patente
#3.1
03/22/2011
RPI 2098
Pedido de patente depositado
#2.1
09/28/2010
RPI 2073
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