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Official data from INPI

Aralquilsilano contendo halogênio, mistura, composições, processo para preparação de um aralquilsilano contendo halogênio, composição de borracha, processo para a preparação de uma composição de borracha e artigo de manufatura

ArquivadaInvention PatentPCT · US2009052976

Application data

Number

PI0917248

Type

Invention Patent

Filing

08/06/2009

Publication

11/10/2015

PCT

US2009052976

Progress at the INPI

  1. Filing08/06/09
  2. Publication11/10/15
  3. Examination
  4. Allowance07/02/19
  5. Abandoned
  6. In force

The application was allowed on 07/02/2019 but abandoned for failure to pay the grant fee (art. 38 of the Brazilian IP Act). The letters patent were never issued.

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Latest action published by the INPI: 10/15/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS INC.

US

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Inventors

E. P. (pessoa física)

US

J. A. (pessoa física)

US

P. J. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

12/187.765 · 08/07/2008

Abstract

ARALQUILSILANO ATIVADO CONTENDO HALOGÃNIO.A invenção está direcionada a aralquilsilanos ativados contendo halogênio, possuindo pelo menos um grupo hidrolisável ligado a um átomo de silício e pelo menos um grupo funcional halogênio ligado a um átomo de carbono ao qual tanto o átomo de silício e um grupo aromático são ligados covalentemente. A invenção é também direcionada a um processo para fazer um tal de silano, bem como ao seu uso em composições de borracha e produtos que contenham tais composições de borracha, tais como pneus.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI

#11.4

10/15/2019

RPI 2545

Deferimento

#9.1

07/02/2019

RPI 2530

6.20

09/25/2018

RPI 2490

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/17/2018

RPI 2467

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/10/2015

RPI 2340

Alteração de dados cadastrais

#1.1

09/06/2011

RPI 2122

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