Application data
Number
PI0916223Type
Filing
Publication
PCT
EP2009059758 The patent was granted on 01/07/2020 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/12/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
POLYSIUS AG
DE
THYSSENKRUPP POLYSIUS AG
DE
Inventors
D. K. (pessoa física)
DE
D. S. (pessoa física)
DE
Priority claims
DE
10 2008 036 088.0 · 08/04/2008
Abstract
PLANTA DE CIMENTO E MÃTODO PARA OPERAR UMA PLANTA DE CIMENTO.No método de acordo com com a invenção para operar uma planta de cimento, o cru cimenteiro é pré-aquecido em uma zona de pré-aquecimento, o material pré-aquecido é pré-calcinado em uma zona de calcinação e o material pré-calcinado é finalmente sinterizado em uma zona de sinterização. A planta de cimento é operada de tal maneira que o material pré-calcinado fornece à zona de sinterização uma concentração de SO3 de pelo menos 5,50% em massa e uma proporção de CaSO4 de pelo menos 75%, preferencialmente de 90% do teor total de sal.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2733 de 23-05-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
09/12/2023
RPI 2749
#21.6
Referente à 14ª anuidade.
05/23/2023
RPI 2733
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 07/01/2020, observadas as condições legais
01/07/2020
RPI 2557
#9.1
11/26/2019
RPI 2551
#7.1
07/16/2019
RPI 2532
O depositante deve responder a exigência formulada neste parecer por meio do serviço de código 206 em até 60 (sessenta) dias, a partir da data de publicação na RPI, sob pena do arquivamento do pedido, de acordo com o Art. 34 da LPI.Publique-se a Exigência (6.20).
10/16/2018
RPI 2493
#6.6.1
04/17/2018
RPI 2467
#25.4
07/05/2016
RPI 2374
#1.3
11/03/2015
RPI 2339
#1.1
09/06/2011
RPI 2122
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