Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI
#11.4
05/07/2019
RPI 2522
Application data
Number
PI0912371Type
Filing
Publication
PCT
DK2009000102 The application was allowed on 01/22/2019 but abandoned for failure to pay the grant fee (art. 38 of the Brazilian IP Act). The letters patent were never issued.
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Applicants
Frese A/S
DK
Inventors
A. J. (pessoa física)
DK
IPC Classification
Priority claims
DK
PA 2008 00634 · 05/05/2008
Abstract
VÃLVULA DE CONTROLE. A válvula de controle de acordo com a invenção é para uso em sistemas contendo liquido. Ela compreende um alojamento de válvula (1) tendo um lado de entrada (17) e um lado de saÃda (18), dito alojamento de válvula sendo provido com um arranjo mantendo pressão para manter uma pressão diferencial constante entre os lados de entrada e saÃda, bem como um arranjo de controle de quantidade para estabelecer a máxima quantidade de fluxo através da válvula e ajuste dela. O arranjo de controle compreende dois elementos envoltórios de cilindro (2 e 3) cooperando no trajeto de fluxo, ambos tendo material removido das de outro modo áreas sobrepondo-se, desse modo gerando uma área descoberta (25) no trajeto de fluxo da válvula de controle. O elemento envoltório de cilindro externo (3) é estacionariamente rotativo em relação ao alojamento de válvula, enquanto o elemento envoltório de cilindro (2) pode ser girado por meio de um alga rotativa (13), por meio do que uma abertura maior ou menor (25) entre os elementos envoltórios de cilindro cooperantes (2 e 3) podem ser providas. Ambos os elementos envoltórios de cilindro (2 e 3), que cooperam com o furo de sede (8) do alojamento de válvula, podem também ser deslocados (26) na direção axial, resultando em um aumento ou uma diminuição da abertura gerada (25). Desse modo, a quantidade de fluxo pode ser ajustada antes do pré-ajuste, p. ex., por meio de um atuador.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.4
05/07/2019
RPI 2522
#8.6
Referente à 10ª anuidade.
03/06/2019
RPI 2513
#9.1
01/22/2019
RPI 2507
#1.3
10/13/2015
RPI 2336
#1.1
08/30/2011
RPI 2121
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