Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 16/04/2009, observadas as condições legais. Patente concedida conforme ADI 5.529/DF, que determina a alteração do prazo de concessão.
01/28/2025
RPI 2821
Application data
Number
PI0911042Type
Filing
Publication
PCT
EP2009054515 The patent was granted on 01/28/2025 and is in force until 04/16/2029. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:04/16/2029
Latest action published by the INPI: 01/28/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
AQUARIUS INVESTHOLDING SARL
LU
JISBREY, S.A.
UY
Inventors
G. T. (pessoa física)
FR
I. S. (pessoa física)
PE
IPC Classification
Priority claims
EP
PCT/EP2008/054643 · 04/17/2008
Abstract
SUSPENSÃO CONTENDO NANOPARTÃCULAS DE ÃCIDO SILÃCICO COLOIDAIS ESTABILIZADAS DE HIDRÃNIO, FORMULAÃÃO OBTIDA A PARTIR DA REFERIDA SUSPENSÃO DILUÃDA, Pà OBTIDO A PARTIR DA REFERIDA SUSPENSÃO DESIDRATADA, COMPOSIÃÃES OBTIDAS A PARTIR DO REFERIDO PÃ, PREPARAÃÃO E USO.A presente invenção refere-se à s nanopartÃculas de ácido silÃcico estabilizadas com hidrônio, à formulação obtida a partir da referida suspensão diluÃda, ao pó obtido a partir da referida suspensão diluÃda, ao pó obtido a partir da referida suspensão desidratada e à preparação ou forma de dosagem obtidos a partir da referida suspensão, formulação ou pó, para suas preparações e suas utilizações em todos os tipos de aplicações nos domÃnios da alimentação, medicina, farmacêutico, e cosmético. A presente invenção fornece uma suspensão estável de nanopartÃculas de ácido silÃcico coloidal com um pH inferior a 0,9, uma concentração de silÃcico molar entre 0,035 e 0,65, uma concentração de água livre de pelo menos 30% (p/v) e uma proporção entre Ãon hidrônio e as concentrações de Si molares superiores a 2 e, de preferência, inferiores a 4. A presente invenção também também fornece um método para preparar uma suspensão estável de nanopartÃculas de ácido silÃcico coloidal, que compreende as etapas de fornecer uma solução aquosa de silÃcico inorgânico ou orgânico e rápida mistura da referida solução aquosa de silÃcio inorgânico ou orgânico com água contendo um composto de ácido forte, a uma temperatura inferior a 300 ºC, de preferência compreendido entre 1 e 25 ºC, para formar uma suspensão de nanopartÃculas de ácido silÃcico coloidal com um pH inferior a 0,9, estabilizada por Ãons de hidrônio, a proporção entre os Ãons hidrônio e concentrações molares de Si sendo superior a 2 e, de preferência, inferior a 4, para uma concentração de silÃcio molar entre 0,035 e 0,65 e uma concentração de água livre de pelo menos 30% (p/v).
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 16/04/2009, observadas as condições legais. Patente concedida conforme ADI 5.529/DF, que determina a alteração do prazo de concessão.
01/28/2025
RPI 2821
Recorrente: O depositante. @ Despacho: Recurso conhecido e provido. Reformada a decisão recorrida e deferido o pedido. Desta data corre o prazo de 60 (sessenta) dias para o pagamento da retribuição para expedição da Carta-Patente. [100]
06/27/2023
RPI 2738
#12.2
Recurso: 870210018367 - 25/02/2021
03/09/2021
RPI 2618
#9.2
01/05/2021
RPI 2609
#6.1
06/09/2020
RPI 2579
#6.21
10/15/2019
RPI 2545
#7.5
NOTIFICAÇÃO DE ANUÊNCIA RELACIONADA COM O ART 229 DA LPI
07/16/2019
RPI 2532
#6.6.1
04/17/2018
RPI 2467
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: C01B 33/143; C01B 33/12; A23K 1/175; A23L 1/304; A61K 33/00; C05D 9/00.
03/27/2018
RPI 2464
#7.4
De acordo com o artigo 229-C da Lei nº 10196/2001, que modificou a Lei nº 9279/96, a concessão da patente está condicionada à anuência prévia da ANVISA. Considerando a aprovação dos termos do Parecer nº 337/PGF/EA/2010, bem como a Portaria Interministerial Nº 1065 de 24/05/2012, encaminha-se o presente pedido para as providências cabíveis.
03/06/2018
RPI 2461
#1.3
12/29/2015
RPI 2347
#1.1
08/30/2011
RPI 2121
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