Application data
Number
PI0910074Type
Filing
Publication
PCT
JP2009055400 The patent was granted on 09/10/2019 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 05/02/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
F. C. (pessoa física)
JP
Inventors
A. E. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2008-076940 · 03/25/2008
Abstract
PROCESSO PARA FABRICAR PLACA DE IMPRESSÃO LITOGRÃFICAà provido um processo para fabricar uma placa de impressão litográfica que exibe segurança e excelente capacidade de revelação e capacidade de processamento durante o processamento em uma única solução, usando uma uma solução de processamento com pH em uma região francamente alcalina, e preferivelmente um pH de 8,5 a 10,5. à descrito um processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, o processo incluindo uma etapa de preparação para preparar precursor de placa de impressão litográfica tendo, acima de um suporte hidrofÃlico, uma camada de formação de imagem que contém um agente de absorção infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto etilenicamente insaturado, e um polÃmero ligante, uma etapa de exposição para expor para formação de imagem o precursor de placa de impressão litográfica, e uma etapa de processamento para processar para a formação de imagem, o precursor de placa de impressão litográfica exposto usando uma solução de processamento contendo Ãon carbonato, Ãon bicarbonato, e um composto polÃmero solúvel em água.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2714 de 10-01-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
05/02/2023
RPI 2730
#21.6
Referente à 14ª anuidade.
01/10/2023
RPI 2714
#24.4
05/10/2022
RPI 2679
#21.6
Referente à 13ª anuidade.
01/11/2022
RPI 2662
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 10/09/2019, observadas as condições legais
09/10/2019
RPI 2540
#9.1
08/13/2019
RPI 2536
#6.1
04/30/2019
RPI 2521
#6.6.1
03/26/2019
RPI 2516
#1.3
12/29/2015
RPI 2347
#1.1
08/30/2011
RPI 2121
From the same holder
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.