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Official data from INPI

COMPOSIÇÃO POLIMÉTRICA DESATIVADA DE METAIS

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · EP2009050899

Application data

Number

PI0907887

Type

Invention Patent

Filing

01/28/2009

Publication

07/21/2015

PCT

EP2009050899

Progress at the INPI

  1. Filing01/28/09
  2. Publication07/21/15
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/05/2016. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Borealis Technology Oy

FI

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Inventors

F. R. (pessoa física)

AT

Technical data

IPC Classification

Priority claims

EP

08151512.4 · 02/15/2008

Abstract

COMPOSIÃÃO POLIMÃRICA DESATIVADORA DE METAIS. A presente invenção refere-se a uma composição polimérica, compreendendo - uma poliolefina, - um fenol estericamente impedido da seguinte fórmula: em que os grupos X, que podem ser iguais ou diferentes, têm a seguinte fórmula: em que R1 e R4, que podem ser iguais ou diferentes, são um grupo alquila que tem entre 1 e 8 átomos de carbono; R2, R3, R5, e R6, que podem ser iguais ou diferentes, são hidrogênio ou um grupo alquila que tem entre 1 e 8 átomos de carbono, - uma hidrotalcita e/ou difosfito de bis(2,4-dicumilfenil)pentaeritritol.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2344 de 08-12-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

04/05/2016

RPI 2361

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 5ª, 6ª e 7ª anuidades.

12/08/2015

RPI 2344

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/21/2015

RPI 2324

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/30/2011

RPI 2121

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