SISTEMA E DISPOSITIVOS PARA TRATAMENTO DE EFLUENTES LÍQUIDOS POR PLASMA SUBMERSO

IPC Classification

Abstract

SISTEMA E DISPOSITIVOS PARA TRATAMENTO DE EFLUENTES LÍQUIDOS POR PLASMA SUBMERSO. Campo desta Patente: - Tratamento de efluentes líquidos, de qualquer natureza, por plasma submerso. - Tratamento, por plasma submerso, de resíduos gasosos ou sólidos, de quaisquer naturezas, metálicos e não-metálicos, dissolvidos ou em suspensão em líquidos. O grande avanço inovador ao Estado da Técnica, trazido pelo objeto desta Patente é o desenvolvimento de um sistema capaz de promover a geração e a manutenção de um estado de plasma submerso nos líquidos a serem tratados e em contato direto com estes, onde o próprio meio é parte integrante do processo, configurando, assim, uma inovadora tecnologia capaz de tratar todos e quaisquer resíduos, sem exceções, que se apresentem em forma liquida, não necessariamente em meios aquosos, seja em solução ou em suspensão, aquosa ou não, e o tratamento é feito em uma única operação, sem necessidade de adição de produtos químicos auxiliares e sem o lançamento de gases na atmosfera, com segurança, economia e completa adequação e até superação dos parâmetros legais dos diversos termos das legislações de proteção ambiental vigentes. Os equipamentos que configuram o SISTEMA E DISPOSITIVOS PARA TRATAMENTO DE EFLUENTES LÍQUIDOS POR PLASMA SUBMERSO, constam basicamente de 3 componentes: 1. Primeiro componente - fonte de alimentação, AC/DC, com dispositivos de controle de tensão e corrente, 2. Segundo componente - grupo de geradores de radiações eletro-magnéticas, composto de geradores de micro-ondas, radiofreqúências, em potências e freqúéncias variadas, bem como, opcionalmente, geradores de feixes de laser e canhões de elétrons, 3. Terceiro componente - reator especifico, conforme descrito na Figura 1.