Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 18/11/2009, observadas as condições legais
10/29/2019
RPI 2547
Application data
Number
PI0905027Type
Filing
Publication
Patent grant document available
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Access the documentThe patent was granted on 10/29/2019 and is in force until 11/18/2029. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:11/18/2029
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Applicants
U. B. (pessoa física)
BA, BR
Inventors
A. S. (pessoa física)
BR
O. C. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
ELETRODO TIPO WAFER REATIVO QUIMICAMENTE DE ALUMíNIO E GÁLIO E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DO MESMO. Eletrodo tipo wafer reativo quimicamente de alumínio e gálio que compreende um leito de alumínio (1A) produzido a partir de um bloco de alumínio com paredes superior (1C) e inferior (1D) e paredes laterais (1E); em que são formados leitos de engaste (1B) entre as paredes superior (1C) e inferior (1D) e paredes laterais (1E), os leitos de engaste (1B) separados entre si por uma parede interna (1F), e nos referidos leitos de engaste (1B) será engastado gálio.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 18/11/2009, observadas as condições legais
10/29/2019
RPI 2547
#9.1
09/24/2019
RPI 2542
#6.1
05/21/2019
RPI 2524
#6.6.1
04/17/2018
RPI 2467
03/22/2016
RPI 2359
Referente ao despacho publicado na RPI 2343 de 01/12/2015.
03/15/2016
RPI 2358
#8.6
Não apresentada a guia de cumprimento de exigência.
12/01/2015
RPI 2343
complementar a retribuição da 4ª anuidade de acordo com a tabela vigente, referente a guia de recolhimento 221307457813, e comprovar a restauração.
08/12/2014
RPI 2275
#3.1
07/05/2011
RPI 2113
#2.1
07/13/2010
RPI 2062
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