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Official data from INPI

SIMULADOR DE SENSIBILIDADE E CENTRO DE ROTAÇÃO

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI0904943

Type

Invention Patent

Filing

12/17/2009

Publication

09/08/2015

Progress at the INPI

  1. Filing12/17/09
  2. Publication09/08/15
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/09/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

U. S. (pessoa física)

SE, BR

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Inventors

D. S. (pessoa física)

BR

F. F. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

SIMULADOR DE SENSIBILIDADE E CENTRO DE ROTAÇÃO. A avaliação do objeto simulador de sensibilidade e centro de rotação se deu por meio da realização de testes de controle de qualidade em câmaras de cintilação. Os resultados dos testes de controle de qualidade mostraram-se satisfatórios, podendo ser utilizados como parâmetros em avaliações futuras nos equipamentos. O objeto simulador desenvolvido mostrou-se eficaz para o uso em controle de qualidade das câmaras de cintilação, com a vantagem de incorporar duas funções em um só simulador, permitindo aos profissionais dos serviços de medicina nuclear a realização de testes com menor risco de contaminação e tempo para realizar dos testes. Vale ainda ressaltar que esse simulador foi desenvolvido com matéria prima de baixo custo e com qualidade comparável aos simuladores existentes.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

04/09/2019

RPI 2518

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

12/26/2018

RPI 2503

8.7

04/12/2016

RPI 2362

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 4ª, 5ª e 6ª anuidades.

12/08/2015

RPI 2344

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/08/2015

RPI 2331

Pedido de patente depositado

#2.1

06/29/2010

RPI 2060

Patent monitoring

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