Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2270 de 08/07/2014.
11/25/2014
RPI 2290
Application data
Number
PI0903468Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 11/25/2014. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
CAP1 CO., LTD.
KR
Inventors
C. L. (pessoa física)
KR
IPC Classification
Priority claims
KR
1020090001399 · 01/08/2009
Abstract
CHAPEU GERADOR DE ÍON NEGATIVO, é configurado de modo que um espaço pré determinado é formado entre o interior do chapéu e uma faixa inferior da superfície interna e um tecido gerador de íon negativo é inserido no espaço, evitando dessa forma que o revestimento gerador de íon negativo seja facilmente desgastado ao invés de esticar ou aumentar a faixa.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2270 de 08/07/2014.
11/25/2014
RPI 2290
#8.6
Referente à 5ª anuidade.
07/08/2014
RPI 2270
#3.1
11/03/2010
RPI 2078
#2.1
02/02/2010
RPI 2039
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