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Official data from INPI

MELHORIA EM BANHO DE COBRE TOQUE ALCALINO ISENTO DE CIANETOS VISANDO A OBTENÇÃO DE ADERÊNCIA SATISFATÓRIA SOBRE ZAMAC E AUMENTO DE BRILHO

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI0902594

Type

Invention Patent

Filing

07/27/2009

Publication

04/12/2011

Progress at the INPI

  1. Filing07/27/09
  2. Publication04/12/11
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/24/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Instituto de Pesquisas Tecnológicas do Est. de São Paulo S/A - IPT

SP, BR

Inventors

C. P. (pessoa física)

BR

Z. P. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

MELHORIA EM BANHO DE COBRE TOQUE ALCALINO ISENTO DE CIANETOS VISANDO A OBTENÇÃO DE ADERENCIA SATISFATÓRIA SOBRE ZAMAC E AUMENTO DE BRILHO A invenção modifica o banho toque comercial por meio da adição de uma série de compostos orgânicos e inorgânicos para torná-lo adequado para processos em tambor rotativo, determinando-se faixas adequadas das variáveis operacionais (temperatura, agitação, pH e densidade de corrente) e da composição química (concentrações do 1-hidroxietano, 1,1-difosfônico - HEDP, dos lons Cu^2+^ e dos aditivos) possibilitando um banho toque com desempenho satisfatório pelo aumento da concentração do HEDP, aumento do pH e a adição de cloreto de potássio. Além da aderência satisfatória, os depósitos obtidos com a adição do ácido salicilsulfônico ao banho toque à base de HEDP apresentam brilho superior aos obtidos a partir de banhos cianetados sem aditivos como, por exemplo, niveladores e abrilhantadores.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção do arquivamento

#11.20

09/24/2020

RPI 2594

Arquivamento - Art. 34 da LPI

#11.5

ARQUIVADO O PEDIDO, UMA VEZ QUE NÃO FORAM ATENDIDAS AS EXIGÊNCIAS PREVISTAS NO ART. 34 DA LPI. DESTA DATA CORRE O PRAZO DE 60(SESSENTA) DIAS PARA EVENTUAL RECURSO DO INTERESSADO.

11/06/2018

RPI 2496

6.20

O depositante deve responder a exigência formulada neste parecer em até 60 (sessenta) dias, a partir da data de publicação na RPI, sob pena do arquivamento do pedido, de acordo com o artigo 34, inciso II, da LPI, por meio do serviço de código 206.Publique-se a Exigência (6.20).

08/28/2018

RPI 2486

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/17/2018

RPI 2467

Publicação do pedido de patente

#3.1

04/12/2011

RPI 2101

Pedido de patente depositado

#2.1

11/17/2009

RPI 2028

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