Concessão da patente
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 21/01/2020, observadas as condições legais
01/21/2020
RPI 2559
Application data
Number
PI0901543Type
Filing
Publication
Applicants
INSTITUTO DE AERONÁUTICA E ESPAÇO - IAE
SP, BR
INSTITUTO NACIONAL DE PESQUISAS ESPECIAIS - INPE
SP, BR
Inventors
C. C. (pessoa física)
BR
M. B. (pessoa física)
BR
N. F. (pessoa física)
BR
N. B. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
PROCESSO PARA DEPOSIÇÃO DE FILMES DE DIAMANTE CVD COM CRESCIMENTO EM PROFUNDIDADE SOBRE AS SUPERFÍCIES EXTERNAS E INTERNAS DE TITANIO TRIDIMENSIONALMENTE POROSO E ELETRODO DE TITANIO TRIDIMENSIONALMENTE POROSO. A presente invenção refere-se a um processo utilizado para a deposição de uma camada de filme de diamante-CVD sobre um material tridimensionalmente poroso, sendo usado um substrato de titânio e de liga de titânio como o referido material tridimensionalmente poroso, contendo poros e planos externos e internos, abertos e interconectados, definindo após o crescimento em profundidade, uma superfície adiamantada em peça única, bem como aos eletrodos tridimensionalmente porosos de titânio e de liga de titânio obtidos por meio do referido processo.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 21/01/2020, observadas as condições legais
01/21/2020
RPI 2559
#9.1
12/31/2019
RPI 2556
#6.1
09/24/2019
RPI 2542
A manifestação da requerente quanto à ciência de parecer notificada na RPI 2510, de 12 de fevereiro de 2019, foi tempestivamente apresentada por meio da petição 020190000292, de 29 de abril de 2019. Contudo, o peticionamento foi efetuado de modo equivocado, utilizando petição de cód. 207.A manifestação quanto à ciência de parecer (despacho 7.1) deve ser protocolada em petição de cód. 281, com a apresentação da sua respectiva taxa de retribuição (GRU e comprovante de pagamento), conforme os valores da tabela vigente.
06/18/2019
RPI 2528
#7.1
02/12/2019
RPI 2510
#6.6.1
04/17/2018
RPI 2467
01/26/2016
RPI 2351
#8.6
Referente à 6ª anuidade.
11/24/2015
RPI 2342
#3.1
01/04/2011
RPI 2087
#2.1
09/22/2009
RPI 2020
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