Concessão da patente
#16.1
03/26/2019
RPI 2516
Application data
Number
PI0901387Type
Filing
Publication
The patent was granted on 03/26/2019 and is in force until 04/24/2029. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:04/24/2029
Latest action published by the INPI: 03/26/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS - UNICAMP
SP, BR
Inventors
C. S. (pessoa física)
BR
E. O. (pessoa física)
BR
J. S. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
PROCESSO DE PRODUÇÃO DE SÍLICA VITREA E SÍLICA VITREA ASSIM OBTIDA. O presente pedido de patente de produto e processo para a produção de sílica vítrea, especialmente para componentes ópticos, principalmente lentes, utilizados em litografia óptica na região UV compreende o ajuste das condições de deposição e consolidação do método VAD ("Vapor-phase Axial Deposition") e, indiretamente, no ajuste da concentração de OH e da variação da temperatura da superfície de deposição da preforma sobre a qual as nanopartículas de sílica são depositadas. Através do presente método, a sílica vítrea é confeccionada com homogeneidade de índice de refração menor ou igual a 5 ppm, birrefringência menor ou igual a 2 nm/cm, transparência na região UV maior ou igual a 90% e resistência à irradiação do laser excimer sem a necessidade do tratamento de homogeneização, otimizando, portanto, o custo e o tempo de produção.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
03/26/2019
RPI 2516
#9.1
03/06/2019
RPI 2513
#15.11
A Classificação Anterior era: C03B 37/014
10/30/2018
RPI 2495
#6.1
10/30/2018
RPI 2495
#6.6.1
04/17/2018
RPI 2467
#3.1
01/04/2011
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#2.1
09/01/2009
RPI 2017
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