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Official data from INPI

PROCESSO DE EXTRUSÃO PARA ENXERTAR BORRACHA

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · EP2008066534

Application data

Number

PI0820761

Type

Invention Patent

Filing

12/01/2008

Publication

06/16/2015

PCT

EP2008066534

Progress at the INPI

  1. Filing12/01/08
  2. Publication06/16/15
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/05/2016. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

DSM IP ASSESTS B.V.

NL

LANXESS ELASTOMERS B.V.

NL

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Inventors

F. H. (pessoa física)

NL

J. Z. (pessoa física)

US

J. G. (pessoa física)

NL

P. M. (pessoa física)

BE

Technical data

Priority claims

EP

07024052.8 · 12/12/2007

US

61/013,359 · 12/13/2007

Abstract

PROCESSO DE EXTRUSÃO PARA ENXERTAR BORRACHA. A invenção se refere a um processo para produzir uma borracha enxertada, compreendendo: a) fornecer uma borracha de etileno propileno com peso de peso molecular médio (Pm) de pelo menos 80 Kg/mol em um reator de extrusão contínua pela alimentação da borracha em uma unidade de dosagem de placa/fundição e transporte da borracha para o reator de extrusão contínua por uma bomba de material fundido; b) secar a borracha no reator de extrusão contínua até conteúdo de umidade entre cerca de 0,2 e cerca de 0,5% em peso; c) fomecer a borracha seca a uma primeira região de injeção do reator de extrusão contínua, em uma temperatura entre 190 e 250 °C, d) na primeira região de injeção, fornecer sucessivamente uma primeira quantidade de anidrido maleico e um primeiro iniciador de radical livre à borracha seca; e) reagir anidrido maileico com a borracha em uma primeira região reacional do reator de extrusão contínua para produzir borracha enxertada; f) em uma segunda região de injeção, fornecer com sucesso uma segunda quantidade de anidrido maleico e um segundo iniciador de radical livre, o primeiro e o segundo iniciador de radical livre sendo um peróxido orgânico com meia-vida (t1/2) de mais de 1 segundo se medido em monoclorobenzeno a 220 ºC. g) aplicar cisalhamento à borracha enxertada em uma segunda região de reação do reator de extrusão contínua, o cisalhamento suficiente para reduzir o peso do peso molecular médio (Pm) da borracha enxertada por um fator de pelo menos 2.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2343 de 01-12-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

04/05/2016

RPI 2361

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 6ª e 7ª anuidades.

12/01/2015

RPI 2343

Transferência deferida

#25.1

10/27/2015

RPI 2338

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/16/2015

RPI 2319

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/30/2011

RPI 2121

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