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Official data from INPI

MÉTODO E PLANTA PARA O TRATAMENTO A PLASMA DE SUBSTRATOS SUCESSIVOS

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · EP2008065168 Official document available

Application data

Number

PI0820277

Type

Invention Patent

Filing

11/07/2008

Publication

05/26/2015

PCT

EP2008065168

Patent grant document available

We have the complete official document for this filing, as published by INPI.

Access the document

Progress at the INPI

  1. Filing11/07/08
  2. Publication05/26/15
  3. Examination
  4. Allowance02/12/19
  5. Grant03/19/19
  6. Terminated09/16/25

The patent was granted on 03/19/2019 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/09/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

ADVANCED GALVANISATION AG

CH

INDUSTRIAL PLASMA SERVICES & TECHNOLOGIES -IPST GMBH

CH

Inventors

P. B. (pessoa física)

CH

Technical data

Priority claims

BE

200700556 · 11/19/2007

Abstract

MÃTODO E PLANTA PARA O TRATAMENTO A PLASMA DE SUBSTRATOS SUCESSIVOS E INSTALAÃÃOA invenção se refere a um método e um dispositivo para o tratamento a plasma de substratos metálicos ousubstratos isolantes (3) se movendo, de modo substancialmente contínuo, através de uma câmara de vácuo tendo uma zona de tratamento (2), o plasma sendo mantido por acoplamento indutivo de radiofreqüência na zona de tratamento (2) por meio de um indutor (4) conectado a um gerador de rádiofrequência, onde o indutor (4) é protegido contra qualquer contaminação pelo material emitido pela superfície dos substratos (3), por meio de uma gaiola de Faraday (7), que é posicionada entre o plasma e o indutor (4), e onde a gaiola de Faraday (7) é, em média, eletricamente positivamente polarizada com relação aos substratos (3), ou com relação a um contra-eletrodo presente no plasma.FIGURAS

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

21.8

Anulada a publicação código 21.6 na RPI nº 2854 de 16/09/2025 por ter sido indevida.

12/09/2025

RPI 2866

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 17ª anuidade.

09/16/2025

RPI 2854

Concessão da patente

#16.1

03/19/2019

RPI 2515

Deferimento

#9.1

02/12/2019

RPI 2510

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

09/11/2018

RPI 2488

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/17/2018

RPI 2467

Transferência deferida

#25.1

09/26/2017

RPI 2438

Transferência em exigência

#25.3

A fim de atender a transferência, requerida através da petição nº 870160063435 de 28/10/2016, é necessário apresentar a tradução juramentada do documento de cessão.

06/27/2017

RPI 2425

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/26/2015

RPI 2316

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/23/2011

RPI 2120

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