Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
Referente à 18ª anuidade.
08/25/2026
RPI 2903
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Official data from INPI
MÉTODO PARA O TRATAMENTO DE PLASMA DE SUBSTRATOS METÁLICOS OU ISOLANTES, E DISPOSITIVO PARA O TRATAMENTO DE SUBSTRATOS METÁLICOS OU ISOLANTES POR PLASMA
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · EP2008063354 Official document available
Application data
Number
PI0818025Type
Invention Patent
Filing
10/06/2008
Publication
03/24/2015
PCT
EP2008063354 Patent grant document available
We have the complete official document for this filing, as published by INPI.
Access the documentProgress at the INPI
- Filing10/06/08
- Publication03/24/15
- Examination
- Allowance10/29/19
- Grant12/03/19
- Terminated08/25/26
The patent was granted on 12/03/2019 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/25/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
ADVANCED GALVANISATION AG
CH
INDUSTRIAL PLASMA SERVICES & TECHNOLOGIES - IPST GMBH
CH
NEOVAC GMBH
DE
Inventors
P. V. (pessoa física)
CH
Technical data
IPC Classification
Priority claims
EP
07119011.0 · 10/22/2007
Abstract
MÃTODO PARA O TRATAMENTO DE PLASMA DE SUBSTRATOS METÃLICOS OU ISOLANTES, E DISPOSITIVO PARA O TRATAMENTO DE SUBSTRATOS METÃLICOS OU ISOLANTES POR PLASMA. A invenção está relacionada a um método e um dispositivo para o tratamento por plasma de substratos metálicos ou substratos isolantes (3) que transitam de forma substancialmente contÃnua ao longo da extensão de um câmara de vácuo que possui uma zona de tratamento (2), o plasma sendo mantido por acoplamento indutivo de radiofreqüência na zona de tratamento (2) por meio de um indutor (4) conectado a um gerador de radiofreqüência, em que o indutor (4) está protegido de qualquer contaminação pelo material elétrico emitido pela superfÃcie dos substratos (3) por meio de uma gaiola de Faraday (7), que está posicionada entre o plasma e o indutor (4), e em que a gaiola de Faraday (7) é em média eletricamente induzida positivamente com respeito aos substratos (3) ou com respeito a um contra-eletrodo presente no plasma.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Transferência deferida
#25.1
09/06/2022
RPI 2696
Alteração de sede deferida
#25.7
08/23/2022
RPI 2694
Concessão da patente
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 03/12/2019, observadas as condições legais
12/03/2019
RPI 2552
Deferimento
#9.1
10/29/2019
RPI 2547
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
05/21/2019
RPI 2524
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
01/22/2019
RPI 2507
6.20
01/15/2019
RPI 2506
Transferência deferida
#25.1
09/12/2017
RPI 2436
Transferência em exigência
#25.3
A fim de atender a transferência, requerida através da petição nº 870160063439 de 28/10/2016, é necessário apresentar a tradução juramentada do documento de cessão.
04/18/2017
RPI 2415
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
03/24/2015
RPI 2307
Alteração de dados cadastrais
#1.1
08/23/2011
RPI 2120
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