Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
07/26/2016
RPI 2377
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Official data from INPI
DISPOSITIVO FOTOVOLTAICO E RESPECTIVO MÉTODO DE FABRICO
ArquivadaInvention PatentPCT · US2008081373
Application data
Number
PI0819248Type
Invention Patent
Filing
10/27/2008
Publication
10/27/2015
PCT
US2008081373 Progress at the INPI
- Filing10/27/08
- Publication10/27/15
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 10/27/2008 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 07/26/2016. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Qualcomm Mems Technologies, Inc.
US
Inventors
K. K. (pessoa física)
US
M. K. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
EP
08153689.8 · 03/31/2008
US
11/950,392 · 12/04/2007
US
61/002,198 · 11/07/2007
Abstract
DISPOSITIVO FOTOVOLTAICO E RESPECTIVO MÃTODO DE FABRICO. à revelada uma máscara interferométrica 300 que cobre os elétrodos dianteiros 910, 911 de um dispositivo fotovoltaico 900. Essa máscara interferométrica 300 pode reduzir reflexões da luz incidente a partir dos elétrodos 910, 911. Em várias modalidades, a máscara reduzas reflexões de forma que um elétrodo diante iro 910, 911 padrão parece de cor semelhante para regiões adjacentes do material fotovoltaico ativo visÃvel.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
04/05/2016
RPI 2361
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
10/27/2015
RPI 2338
Alteração de dados cadastrais
#1.1
08/23/2011
RPI 2120
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