PROCESSO DE RECUPERAÇÃO DE GECL4 E/OU SICL4 A PARTIR DE FRIBRAS ÓPTICAS OU RESÍDUOS VÍTREOS E PROCESSO PARA PRODUZIR SICL4 DE MATERIAIS RICOS DE SIO2.

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Abstract

PROCESSO DE RECUPERAÃÃO DE GeCI4 e/ou SiCI4 A PARTIR DE FIBRAS ÃPTICAS OU RESÃDUOS VÃTREOS E PROCESSO PARA PRODUÃÃO DE SICI4 A PARTIR DE MATERIAIS RICOS EM SIO2.O presente invento se refere a um método para produzir GeCl, com ou sem SiC!4 a partir de fibras ópticas, o método compreendendo as etapas de reagir fibras ópticas moídas incluindo óxido de germânio e opcionalmente óxido de silício com um reagente incluindo um agente redutor carbonáceo sólido, cloro e um composto de boro para obter um produto gasoso incluindo GeCl4 gasoso, SiCk gasoso e BC!3 gasoso de acordo com as reações: BC!3(g) 1.5GeO, = 1.5GeC!4(g) B,O2BCl(g) " 1.5SiO, = 1.5SiCl4(g) " B2O3 15 20 B,O, + 1.5C 3CI, = 2BCl,(g) 1.5CO2 e então condensar os GeCl4 e BC!3 gasosos e opcionalmente SiC!4 em GeCl4 e BCl3 líquidos e opcionalmente SiCk. O presente invento adicionalmente provê um método para produzir SiC!4 (e opcionalmente GeC!4) a partir de resíduos vÃtreos obtidos a partir da fabricação de fibras ópticas e de fibras ópticas descartadas. O método inclui as etapas de reagir resíduos vÃtreos moídos com um reagente incluindo um agente redutor carbonáceo sólido, um sal e um composto de boro para obter um produto gasoso incluindo SiC!4 e BCl3, e opcionalmente GeC!4; e então condensar o SiCl gasoso, BCh gasoso (com ou sem GeC!4) em SiCl, líquido, BC!3 líquido e GeC!4. Também é provido um método para produzir SiCl, a partir de um material contendo SiO2.