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#11.20
09/24/2020
RPI 2594
Application data
Number
PI0817020Type
Filing
Publication
PCT
JP2008060191 The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
K. U. (pessoa física)
JP
Nichiban CO., LTD
JP
Inventors
H. F. (pessoa física)
JP
K. U. (pessoa física)
JP
K. F. (pessoa física)
JP
M. K. (pessoa física)
JP
S. W. (pessoa física)
JP
Y. T. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2007-256570 · 09/28/2007
Abstract
EMPLASMO AUXILIAR DE MAQUIAGEM, E, MÃTODO PARA MAQUIAR.Material de emplasmo auxiliar cosmético compreendendo uma estrutura de camada tendo uma camada de material de base provida em sua superfÃcie principal com uma camada de material de base provida em sua superfÃcie principal com uma camada adesiva. (1): A camada de material de base é uma camada de elastômero de poliuretano com uma temperatura de transição vÃtrea de 0º C ou inferior, (2): A camada adesiva é uma camada adesiva acrÃlica de copolÃmero contendo de 70% em peso ou mais de unidades de pelo menos um monômero selecionado dentre o grupo consistindo de acrilatos de alquila e metacrilatos de alquila tendo C8-C12 alquila. (3): A espessura da camada de material de base está na faixa de 1 a 10 um. A espessura da camada adesiva está na faixa de 1 a 15 um. A espessura total destas camadas está na faixa de 2 a 20 um.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.20
09/24/2020
RPI 2594
Referente à RPI 2120 de 23/08/2011, quanto ao item 72
09/18/2018
RPI 2489
#11.5
ARQUIVADO O PEDIDO, UMA VEZ QUE NÃO FORAM ATENDIDAS AS EXIGÊNCIAS PREVISTAS NO ART. 34 DA LPI. DESTA DATA CORRE O PRAZO DE 60(SESSENTA) DIAS PARA EVENTUAL RECURSO DO INTERESSADO.
02/03/2015
RPI 2300
#6.6
10/29/2014
RPI 2286
#1.3
10/07/2014
RPI 2283
#1.1
08/23/2011
RPI 2120
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