(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

EMPLASTRO AUXILIAR DE MAQUINAGEM, E, MÉTODO PARA MAQUIAR.

ArquivadaInvention PatentPCT · JP2008060191

Application data

Number

PI0817020

Type

Invention Patent

Filing

06/03/2008

Publication

10/07/2014

PCT

JP2008060191

Progress at the INPI

  1. Filing06/03/08
  2. Publication10/07/14
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 09/24/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

K. U. (pessoa física)

JP

Nichiban CO., LTD

JP

Inventors

H. F. (pessoa física)

JP

K. U. (pessoa física)

JP

K. F. (pessoa física)

JP

M. K. (pessoa física)

JP

S. W. (pessoa física)

JP

Y. T. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2007-256570 · 09/28/2007

Abstract

EMPLASMO AUXILIAR DE MAQUIAGEM, E, MÃTODO PARA MAQUIAR.Material de emplasmo auxiliar cosmético compreendendo uma estrutura de camada tendo uma camada de material de base provida em sua superfície principal com uma camada de material de base provida em sua superfície principal com uma camada adesiva. (1): A camada de material de base é uma camada de elastômero de poliuretano com uma temperatura de transição vítrea de 0º C ou inferior, (2): A camada adesiva é uma camada adesiva acrílica de copolímero contendo de 70% em peso ou mais de unidades de pelo menos um monômero selecionado dentre o grupo consistindo de acrilatos de alquila e metacrilatos de alquila tendo C8-C12 alquila. (3): A espessura da camada de material de base está na faixa de 1 a 10 um. A espessura da camada adesiva está na faixa de 1 a 15 um. A espessura total destas camadas está na faixa de 2 a 20 um.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção do arquivamento

#11.20

09/24/2020

RPI 2594

1.1.1

Referente à RPI 2120 de 23/08/2011, quanto ao item 72

09/18/2018

RPI 2489

Arquivamento - Art. 34 da LPI

#11.5

ARQUIVADO O PEDIDO, UMA VEZ QUE NÃO FORAM ATENDIDAS AS EXIGÊNCIAS PREVISTAS NO ART. 34 DA LPI. DESTA DATA CORRE O PRAZO DE 60(SESSENTA) DIAS PARA EVENTUAL RECURSO DO INTERESSADO.

02/03/2015

RPI 2300

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

10/29/2014

RPI 2286

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/07/2014

RPI 2283

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/23/2011

RPI 2120

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.