Official data from INPI

MÉTODO, MATERIAL E COMPOSIÇÃO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · GB2008050776

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Application data

Number

PI0816398

Type

Invention Patent

Filing

09/03/2008

Publication

02/24/2015

PCT

GB2008050776

View on INPI

Progress at the INPI

Filing09/03/08
Publication02/24/15
Abandoned
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/30/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Perachem Limited

Inventors

A. B. (pessoa física)

D. L. (pessoa física)

J. H. (pessoa física)

P. W. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

C09K 21/04 C09K 21/10 D06M 11/70

Priority claims

0717401.4 · 09/07/2007

0806334.9 · 04/08/2008

Abstract

MÃTODO, MATERIAL E COMPOSIÃÃO.A presente invenÃ§Ã£o se refere a um mÃ©todo detratamento de um material para melhor a retardÃ¢ncia dechamas, o mÃ©todo compreendendo a aplicaÃ§Ã£o ao material deurÃ©ia, Ã¡cido fosforoso ou um sal deste, e uma base contendo uma cÃ¡tion metÃ¡lico monovalente.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2478 de 03-07-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

10/30/2018

RPI 2495

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 10ª anuidade.

07/03/2018

RPI 2478

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

06/26/2018

RPI 2477

6.9

Anulada a publicação código 6.6.1 na RPI nº 2467 de 17/04/2018 por ter sido indevida.

06/05/2018

RPI 2474

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/17/2018

RPI 2467

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

02/24/2015

RPI 2303

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/23/2011

RPI 2120

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