Application data
Number
PI0816214Type
Filing
Publication
PCT
IB2008053566 The patent was granted on 12/06/2016 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/25/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
L'Oreal
FR
NESTEC S.A.
CH
SOCIÉTÉ DES PRODUITS NESTLÉ S.A.
CH
Inventors
A. G. (pessoa física)
FR
I. C. (pessoa física)
FR
IPC Classification
Priority claims
FR
0757346 · 09/04/2007
FR
0757350 · 09/04/2007
US
60/960221 · 09/20/2007
US
60/960224 · 09/20/2007
Abstract
USO COSMÃTICO,COMPOSIÃÃO COSMÃTICA E/OU DERMATOLÃGICA, E, MÃTODOS PARA O TRATAMENTO COSMÃTICO DA PELE, PARA O TRATAMENTO COSMÃTICO DE SINAIS CUTÃNEOS DE ENVELHECIMENTO E/OU FOTOENVELHECIMENTO E PARA O TRATAMENTO COSMÃTICO PARA PREVENIR E/OU TRATAR SUBSTÃNCIAS QUERATINOSAS SECASA presente invenção diz respeito ao uso, em particular uso cosmético de pelo menos uma quantidade eficaz de hesperidina ou de um de seus derivados em combinação com pelo menos uma quantidade eficaz de pelo menos um microorganismo, em particular microorganismo probiótico, ou uma de suas frações como agente para prevenir a redução da função de barreira da pele e/ou reforçá-la.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2686 de 28-06-2022 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
10/25/2022
RPI 2703
#21.6
Referente à 14ª anuidade.
06/28/2022
RPI 2686
#25.1
10/15/2019
RPI 2545
Ref. RPI 2396 de 06/12/2016 quanto ao item (73).
12/26/2017
RPI 2451
#16.1
12/06/2016
RPI 2396
#9.1
10/11/2016
RPI 2388
#6.1
06/21/2016
RPI 2372
#7.1
02/10/2016
RPI 2353
#15.11
As Classificações Anteriores eram: A61K 8/99 , A61Q 19/00 , A61K 8/60 , A61Q 19/08
02/02/2016
RPI 2352
#6.6
10/29/2014
RPI 2286
#1.3
10/07/2014
RPI 2283
#1.1
08/23/2011
RPI 2120
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