Adição na publicação
#15.35
09/08/2021
RPI 2644
Application data
Number
PI0815866Type
Filing
Publication
PCT
EP2008062218 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
AKZO NOBEL N.V.
NL
Inventors
A. K. (pessoa física)
CH
IPC Classification
Priority claims
EP
07116675.5 · 09/18/2007
Abstract
USO DE COMPOSTOS DE AMÔNIO ORGÂNICO QUATERNÁRIO EM MATERIAIS DE CONSTRUÇÃO, PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE MISTURA PARA USO, MISTURA, FORMULAÇÃO DE ARGAMASSA SECA E ARGAMASSA OU CONCRETOA presente invenção refere-se ao uso de compostos de amônio orgânico quaternário para a redução da eflorescência em materiais de construção. Além disso, é descrita uma mistura que contém pelo menos um composto de amônio orgânico quaternário, pelo menos um polímero orgânico hidrossolúvel e, opcionalmente, aditivos adicionais. A mistura conforme a presente invenção pode ser preparada por meio de a) pelo menos um composto de amônio orgânico quaternário e pelo menos um polímero orgânico hidrossolúvel que são misturados entre si em água e a mistura aquosa obtida é opcionalmente seca em seguida; ou b) pelo menos um composto de amônio orgânico quaternário em pó e pelo menos um polímero orgânico hidrossolúvel em pó que são misturados entre si; ou c) pelo menos um composto de amônio quaternário liquido e/ou dissolvido que é aplicado sobre pelo menos um polímero orgânico hidrossolúvel em pó, particularmente por meio de pulverização, adsorção, mistura, secagem em leito fluidizado e/ou granulação.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#15.35
09/08/2021
RPI 2644
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2513 de 06-03-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
06/25/2019
RPI 2529
#8.6
Referente às 8ª, 9ª e 10ª anuidades.
03/06/2019
RPI 2513
#1.3
02/26/2019
RPI 2512
#1.1
08/23/2011
RPI 2120
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