Concessão da patente
#16.1
01/03/2017
RPI 2400
Application data
Number
PI0810702Type
Filing
Publication
PCT
IB2008051724 Patent grant document available
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Access the documentThe patent was granted on 01/03/2017 and is in force until 05/05/2028. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:05/05/2028
Latest action published by the INPI: 01/03/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Sasol Technology (Proprietary) Limited
ZA
Inventors
A. S. (pessoa física)
ZA
A. B. (pessoa física)
ZA
J. V. (pessoa física)
CF
J. B. (pessoa física)
ZA
J. L. (pessoa física)
ZA
J. K. (pessoa física)
ZA
M. D. (pessoa física)
ZA
IPC Classification
Priority claims
ZA
2007/03621 · 05/04/2007
Abstract
CATALISADORES A presente invenção se refere a um processo para produção de catalisador de sÃntese de Fischer-Tropsch a base de cobalto compreendendo, em uma primeira fase de ativação, tratar um precursor de catalisador particulado com um gás de redução, a uma taxa de aquecimento, HR1, até o precursor alcançar uma temperatura T1 , onde 80°C memor ou igual a T1 menor ou igual a 180°C, de modo a obter um precursor parcialmente tratado. Em uma segunda fase de ativação, o processo envolve o tratamento com um precursor parcialmente tratado com um gás de redução, a uma taxa de aquecimento, HR2, com incrementos de x, onde O menor ou igual a HR2 menor que HR1, por um tempo T1, onde T1 é de 0,1 a 20 horas, para obter um precursor parcialmente reduzido. Posteriormente, em uma terceira fase de ativação, o precursor parcialmente reduzido é tratado com um gás de redução, a uma taxa de aquecimento, HR3, onde HR3 maior que HR2 até o precursor parcialmente reduzido atingir uma temperatura T2. O precursor parcialmente reduzido é mantido em T2 por um tempo, onde T2 é de 0 a 20 horas, para obter um catalisador ativado.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
01/03/2017
RPI 2400
#9.1
11/22/2016
RPI 2394
#1.3
10/21/2014
RPI 2285
#1.1
08/23/2011
RPI 2120
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