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#11.20
09/24/2020
RPI 2594
Application data
Number
PI0809777Type
Filing
Publication
PCT
US2008067826 The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/24/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
US
Inventors
G. A. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
60/937,815 · 06/29/2007
Abstract
MÃTODOS PARA A PREPARAÃÃO DE UM COMPOSTOA presente invenção revela um método para a preparação de um composto de Fórmula 1 compreendendo (1) colocar em contato um composto de Fórmula 2 com (2) pelo menos um cianeto de metal alcalino e (3) pelo menos um composto de Fórmula 4, em que R1 é NHR3 ou OR4; R2 é CH3 ou Cl; R3 é H, alquila C1-C4, ciclopropila, ciclopropilciclopropila, ciclopropilmetila ou metilciclopropila; R4 é H ou alquila C1-C4; e X é Br, Cl ou I. A presente invenção também revela um método para a preparação de um composto de Fórmula 4 compreendendo colocar em contato uma mistura de (i) pelo menos um composto de Fórmula 9 e (ii) pelo menos um agente redutor metálico com (iii) diclorobis(trifenilfosfina)nÃquel, e é também revelado um método para a remoção de impurezas de nÃquel de uma mistura delas com compostos de Fórmula 1 compreendendo colocar a mistura em contato com oxigênio na presença de uma solução aquosa de cianeto e é revelado ainda um método para a preparação de um composto de Fórmula 5, em que R5, R6, R7 e Z são conforme definido na descrição, usando-se um composto de Fórmula 1, caracterizado pela preparação do composto de fórmula 1 pelo método revelado acima.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.20
09/24/2020
RPI 2594
#11.5
ARQUIVADO O PEDIDO, UMA VEZ QUE NÃO FORAM ATENDIDAS AS EXIGÊNCIAS PREVISTAS NO ART. 34 DA LPI. DESTA DATA CORRE O PRAZO DE 60(SESSENTA) DIAS PARA EVENTUAL RECURSO DO INTERESSADO.
01/27/2015
RPI 2299
#6.6
10/07/2014
RPI 2283
#1.3
09/23/2014
RPI 2281
#1.1
08/23/2011
RPI 2120
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