Application data
Number
PI0807263Type
Filing
Publication
PCT
US2008053547 The patent was granted on 09/24/2019 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/07/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
DOW GLOBAL TECHNOLOGIES INC
US
Inventors
D. S. (pessoa física)
US
F. S. (pessoa física)
DE
G. C. (pessoa física)
CH
H. F. (pessoa física)
US
K. K. (pessoa física)
CH
L. S. (pessoa física)
US
S. M. (pessoa física)
US
V. T. (pessoa física)
DE
X. Z. (pessoa física)
US
Y. K. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
60/900,968 · 02/12/2007
Abstract
ESTRUTURA COMPÃSITA, PANO DE LIMPEZA SECO, PANO DE LIMPEZA ÃMIDO E MÃTODO PARA FORMAR UMA ESTRUTURA COMPÃSITA.Uma estrutura compósita incluindo um substrato e um fluido em contato com o substrato, sendo que o substrato compreende um não-tecido, uma espuma, ou combinação dos mesmos e se distingue por ter um peso-base de 15 a 500 g/m2.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2866 de 09-12-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
04/07/2026
RPI 2883
#21.6
Referente à 18ª anuidade.
12/09/2025
RPI 2866
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 24/09/2019, observadas as condições legais
09/24/2019
RPI 2542
#15.11
As Classificações Anteriores eram: C11D 1/00 , C11D 3/00
07/23/2019
RPI 2533
#9.1
07/23/2019
RPI 2533
#1.3.1
Retificação da publicação 1.3 da RPI 2118 de 09/08/2011 em relação ao item (72) da mesma.
12/11/2018
RPI 2501
09/18/2018
RPI 2489
#6.6.1
04/24/2018
RPI 2468
#1.3
04/29/2014
RPI 2260
#1.1
08/09/2011
RPI 2118
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