INJETOR DE GÁS ATIVADO PARA USO COM UM REATOR DE ATMOSFERA CONTROLADA POSSUINDO UMA CÂMARA DO REATOR, SISTEMA REATOR DE ATMOSFERA CONTROLADA, E MÉTODO PARA ATIVAÇÃO DE UMA ATMOSFERA CONTIDA POR UMA CÂMARA DO REATOR DE UM REATOR DE ATMOSFERA CONTROLADA
Invention Patent INJETOR DE GÁS ATIVADO PARA USO COM UM REATOR DE ATMOSFERA CONTROLADA POSSUINDO UMA CÂMARA DO REATOR, SISTEMA REATOR DE ATMOSFERA CONTROLADA, E MÉTODO PARA ATIVAÇÃO DE UMA ATMOSFERA CONTIDA POR UMA CÂMARA DO REATOR DE UM REATOR DE ATMOSFERA CONTROLADA de AIR PRODUCTS AND CHEMICALS , INC. — IPC C21D 1/00. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.
The application was published in the RPI gazette on 08/16/2011 and is now open to any interested party. It moves on to technical examination at the INPI.
Latest action published by the INPI: 04/24/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.
INJETOR DE GÁS ATIVADO PARA USO COM UM REATOR DE ATMOSFERA CONTROLADA POSSUINDO UMA CÂMARA DO REATOR, SISTEMA REATOR DE ATMOSFERA CONTROLADA, E MÉTODO PARA ATIVAÇÃO DE UMA ATMOSFERA CONTIDA POR UMA CÂMARA DO REATOR DE UM REATOR DE ATMOSFERA CONTROLADA. Um injetor de gás no qual um gás é passado através de descargas elétricas de alta voltagem/baixa corrente antes de ser descarregado dentro da câmara de um alto-forno de tratamento térmico. A ativação elétrica do gás acelera reações desejáveis entre o gás, gases na câmara do alto-forno, e a carga de trabalho na câmara. Preferivelmente, um eletrodo quente é eletricamente carregado e as outras partes do injetor de gás e o alto-forno estão aterrados.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Retificação de publicação
#3.8
Referente à RPI 2119 de 16/08/2011, quanto ao item [54].
04/24/2018
RPI 2468
Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
11/21/2017
RPI 2446
Indeferimento
#9.2
07/11/2017
RPI 2427
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
03/21/2017
RPI 2411
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
10/18/2016
RPI 2389
Publicação do pedido de patente
#3.1
08/16/2011
RPI 2119
6.7
Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.
