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Official data from INPI

ESPAÇADOR PLANO APLICÁVEL A CIRCUITOS DE DISTRIBUIÇÃO DE BAIXA E MÉDIA TENSÃO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0801967

Type

Invention Patent

Filing

05/26/2008

Publication

02/09/2010

Progress at the INPI

  1. Filing05/26/08
  2. Publication02/09/10
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/13/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

V. S. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

V. S. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

ESPAÇADOR PLANO APLICÁVEL A CIRCUITOS DE DISTRIBUIÇÃO DE BAIXA E MÉDIA TENSÃO. Utilizado para espaçamento e isolação de condutores (3) de fases (Fa) de circuitos de distribuição baixa e média tensão suportados pelo neutro ou mensageiro, onde este espaçador plano (A) é composto de uma haste de sustentação (1), confeccionada preferencialmente de material polimérico, cujo conjunto resultante apresenta concavidade que apóia no neutro que está na posição mais extrema em relação ás demais concavidades, que por sua vez suportam as fases (Fa) e onde todas as concavidades possuírem laços de amarração (2) dos condutores (3), sendo que em adição este espaçador (A) pode ser montado junto ao circuito formado por fases (Fa) e neutro, de maneira simples, bastando para tal o operador, localizado no solo, fazer uso de um par de varas de manobras.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente às 3ª e 4ª anuidades.

11/13/2012

RPI 2184

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 3ª e 4ª anuidades.

06/12/2012

RPI 2162

Publicação do pedido de patente

#3.1

02/09/2010

RPI 2040

Pedido de patente depositado

#2.1

09/23/2008

RPI 1968

Patent monitoring

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