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Official data from INPI

BASE REFRATÁRIA PARA VAGÃO PLATAFORMA

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0800019

Type

Invention Patent

Filing

01/10/2008

Publication

09/01/2009

Progress at the INPI

  1. Filing01/10/08
  2. Publication09/01/09
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/13/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

C. N. (pessoa física)

RJ, BR

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Inventors

J. V. (pessoa física)

BR

W. S. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

Base refratária para vagão plataforma. Refere-se o presente pedido de patente a uma base refratária com a função de reter calor, ou seja, sua transmissão para o vagão plataforma, evitando assim a deformação do vagão plataforma, e das placas de aço, que são colocadas sobre este vagão. Como apresentado na figura 1, é fixada por solda no vagão ( 1 ) , e é constituída de barras transversais ( 2 ), que servem de sustentação para as placas; cabeceiras ( 3 ) , que delimitam o comprimento da caixa refratária (4 ); caixa refratária (4 ), que retém a temperatura das placas, reduzindo em cerca de 700%, a transmissão de calor para a estrutura do vagão ( 1 ), como já dito neste relatório, evitando a deformação do assoalho do vagão plataforma e longarina como um todo, e consequentemente da placa, eliminando assim os prejuízos, no que refere ao equipamento e ao produto ( placa ), pois com a não deformação do vagão ,as placas também são transportadas sem nenhuma deformação.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente às 3ª e 4ª anuidades.

11/13/2012

RPI 2184

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 3ª e 4ª anuidades.

06/05/2012

RPI 2161

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/01/2009

RPI 2017

Pedido de patente depositado

#2.1

02/06/2008

RPI 1935

Patent monitoring

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