PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE COMPOSTO DE PRECURSOR PARA COMPOSTO ORGÂNICO MARCADO COM HALOGÊNIO RADIOATIVO

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Abstract

PROCESSO PARA PRODUÃÃO DE COMPOSTO PRECURSOR PARA COMPOSTO ORGÃNICO MARCADO COM HALOGÃNIO RADIOATIVO.Trata-se de um processo para produzir um precursor marcado que é útil para a produção de um composto aminoácido marcado com flúor radioativo. Na etapa de reação para introduzir um grupo abandonador em uma mistura da forma sin e da forma anti do FACBC, deixa-se uma base estar presente no sistema de reação para produzir um aduto do grupo abandonador sin que não reage com a base e é altamente estável, e um aduto do grupo abandonador anti capaz de reagir com a base para formar um composto hidrossolúvel. Ao empregar um método de purificação que utiliza tal diferença na solubilidade, o aduto do grupo abandonador sin pode ser separado seletivamente. A base pode ser uma alquila-mina primária a terciária, de cadeia linear ou cadeia ramificada, com 1 a 10 átomos de carbono, um composto heterocíclico contendo nitrogênio com 2 a 20 átomos de carbono, e um composto heteroaromático contendo nitrogênio com 2 a 20 átomos de carbono.