Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
10/01/2013
RPI 2230
Application data
Number
PI0714458Type
Filing
Publication
PCT
IB2007052634 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 07/05/2007 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Koninklijke Philips Electronics N.V.
NL
Inventors
E. D. (pessoa física)
NL
M. B. (pessoa física)
NL
R. W. (pessoa física)
NL
IPC Classification
Priority claims
EP
06117547.7 · 07/20/2006
Abstract
SISTEMA DE DETECÇÃO PARA DETECTAR LOCAIS DE LUMINESCÊNCIA SOBRE UM SUBSTRATO, COMPENSADOR ÓPTICO, METODO PARA DETECTAR LOCAIS DE RADIAÇÃO SOBRE UM SUB STRATO, METODO BASEADO EM COMPUTADOR PARA PROJETAR UM COMPENSADOR ÓPTICO, PRODUTO DE PROGRAMA DE COMPUTADOR, DISPOSITIVO DE ARMAZENAGEM DE DADOS LEGÍVEIS POR MÁQUINA, E, TRANSMISSÃO DO PRODUTO DE PROGRAMA DE COMPUTADOR. É descrito um sistema de detecção (100) para detectar locais de luminescência sobre um substrato (6). O sistema de detecção (100) compreende tipicamente uma unidade de irradiação (102) para gerar pelo menos um feixe de irradiação por excitação para excitar locais de luminescência no substrato (6). O pelo menos um feixe de irradiação por excitação pode ser constituídos de diversos feixes de irradiação por excitação. O sistema de detecção (100) também compreende um primeiro elemento óptico, por exemplo, elemento refrativo (25), adaptado para receber pelo menos dois feixes de irradiação de comprimentos de onda ou faixa de comprimento de onda diferentes, os pelo menos dois feixes de irradiação sendo feixe(s) de irradiação por excitação a serem focalizados em um substrato e/ou feixe(s) de irradiação por luminescência a serem coletados dos locais de luminescência excitados no substrato (6). O sistema de detecção (100) também compreende um compensador óptico para ajustar pelo menos um dos pelo menos dois feixes de irradiação de comprimentos de onda ou faixa de comprimento de onda diferentes, de modo a reduzir ou compensar quanto a aberrações ópticas. A presente invenção também se relaciona a um método correspondente para detecção, uma placa de fase e um método para projetar tal placa de fase.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
10/01/2013
RPI 2230
#11.1
07/02/2013
RPI 2217
#1.3
02/26/2013
RPI 2199
#1.1
08/16/2011
RPI 2119
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