Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2261 de 06/05/2014.
09/02/2014
RPI 2278
Application data
Number
PI0712624Type
Filing
Publication
PCT
IT2007000621 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/02/2014. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
KIIAN S.P.A.
IT
Inventors
A. L. (pessoa física)
IT
F. F. (pessoa física)
IT
M. G. (pessoa física)
IT
V. B. (pessoa física)
IT
IPC Classification
Abstract
COMPOSIÇÃO FOTOSSENSÍVEL TENDO UM COMPONENTE DE EMULSÃO E UM COMPONENTE SENSIBILIZADOR, PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE UMA COMPOSIÇÃO FOTOSSENSÍVEL E USO DE UMA COMPOSIÇÃO FOTOSSENSÍVEL. Uma composição fotossensível inclui poli (álcool vinílico) (PVA), uma ou mais resinas sintéticas, pelo menos um agente reticulador para o PVA, e um componente sensibilizador, pelo menos um agente gelificante e pelo menos um composto orgânico fotossensível escolhido de sais de diazônio. A composição é adequada para a produção de cilindros de impressão rotativa, em particular no campo têxtil.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2261 de 06/05/2014.
09/02/2014
RPI 2278
#8.6
Referente à 6ª anuidade.
05/06/2014
RPI 2261
#1.3
10/16/2012
RPI 2180
#1.1
08/09/2011
RPI 2118
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