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Official data from INPI

VÁLVULA DE RETENÇÃO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0705253

Type

Invention Patent

Filing

08/28/2007

Publication

01/19/2010

Progress at the INPI

  1. Filing08/28/07
  2. Publication01/19/10
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/21/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

AUCLEN (SHANGHAI) LIMITED

CN

Inventors

C. W. (pessoa física)

CN

Technical data

IPC Classification

Abstract

Válvula de Retenção. Uma válvula tendo um compartimento único que aloja uma válvula de retenção e um filtro. A proteção de vedação é ligada deslizantemente a uma haste de válvula dentro do compartimento e o filtro se ajusta por cima e em torno da proteção de vedação e da haste de válvula. A haste de válvula pode ser também deslizantemente disposta dentro da válvula e a posição de abertura máxima da proteção de vedação na haste de válvula pode ser também ajustada.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente à 5ª anuidade.

11/21/2012

RPI 2185

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

06/26/2012

RPI 2164

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/19/2010

RPI 2037

6.7

Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado em sua forma autenticada; ou segundo parecer da procuradoria nº 074/93, deve constar uma declaração de veracidade, a qual deve ser assinada por uma pessoa devidamente autorizada a representar o interessado, devendo a mesma constar no instrumento de procuração, ou no seu substabelecimento.

05/05/2009

RPI 2000

Pedido de patente depositado

#2.1

02/06/2008

RPI 1935

Patent monitoring

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