Official data from INPI

VÁLVULA GAVETA DE INJEÇÃO QUÍMICA SUBMARINA COMPENSADA POR PRESSÃO

ConcedidaInvention Patent

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Application data

Number

PI0704239

Type

Invention Patent

Filing

11/19/2007

Publication

07/15/2008

View on INPI

Progress at the INPI

Filing11/19/07
Publication07/15/08
Examination
Allowance03/03/20
Grant04/14/20
In force11/19/27

The patent was granted on 04/14/2020 and is in force until 11/19/2027. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:11/19/2027

Latest action published by the INPI: 04/14/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

National Coupling Company INC.

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Inventors

R. W. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

F16K 17/04

Priority claims

11/561,584 · 11/20/2006

Abstract

VÁLVULA DE INJEÇÃO QUÍMICA SUBMARINA COMPENSADA POR PRESSÃO Uma válvula protegida contra retro pressão, adequada para aplicações de injeção química para tratamento de poços submarinos inclui uma válvula gaveta aperfeiçoada, uma válvula de retenção e um compensador de pressão que reage á pressão hidrostática ambiente. A válvula de retenção pode consistir de uma válvula de elevação em um corpo de saída separável. O compensador de pressão consiste de um pistão móvel em um cilindro. A parte do cilindro sobre um lado do pistão está exposta à água do mar, enquanto a parte do cilindro no lado oposto do pistão é preenchida com um fluido hidráulico selecionado. Dessa forma, o acionador da válvula não fica exposto aos efeitos corrosivos e/ou de contaminação da água do mar.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

10 (dez) anos contados a partir de 14/04/2020, observadas as condições legais

04/14/2020

RPI 2571

Deferimento

#9.1

03/03/2020

RPI 2565

Exigência preliminar

#6.21

10/08/2019

RPI 2544

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

01/29/2019

RPI 2508

Publicação do pedido de patente

#3.1

07/15/2008

RPI 1958

Pedido de patente depositado

#2.1

12/26/2007

RPI 1929

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