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Official data from INPI

PROCESSO TOLERANTE A ALTO TEOR DE ÁGUA PARA A PRODUÇÃO DE POLIÉTERES

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0703117

Type

Invention Patent

Filing

07/18/2007

Publication

03/04/2008

Progress at the INPI

  1. Filing07/18/07
  2. Publication03/04/08
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/05/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

BAYER MATERIALSCIENCE LLC

US

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Inventors

E. B. (pessoa física)

US

J. I. (pessoa física)

US

J. P. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

11/490,303 · 07/20/2006

Abstract

PROCESSO TOLERANTE A ALTO TEOR DE ÁGUA PARA A PRODUÇÃO DE POLIÉTERES. A presente invenção refere-se a um processo para a produção de um poliéter envolvendo estabelecer condições de oxialquilação em um reator de oxialquilação na presença de cerca de 5 ppm a cerca de 1.000 ppm, com base no peso final do poliéter de um catalisador de cianeto de metal duplo (DMC), introduzir continuamente no reator pelo menos um óxido de alquileno e um iniciador de baixo peso molecular tendo um peso molecular médio numérico de menos que cerca de 300 dáltons (Da) contendo cerca de 200 ppm a cerca de 5.000 ppm de água e acidificado com cerca de 10 ppm a cerca de 2.000 ppm de pelo menos um de um ácido mineral prático inorgânico e um ácido orgânico, e recuperar um produto de poliéter tendo um peso molecular médio numérico de cerca de 200 Da a cerca de 4.000 Da, em que as ppm (partes por milhão) de água e ácido são baseadas no peso do iniciador de baixo peso molecular. O processo inventivo pode possibilitar o uso de iniciadores de baixo peso molecular contendo níveis mais altos de água em níveis mais baixos de catalisador DMC que os processos correntes.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2420 de 23-05-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

09/05/2017

RPI 2435

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 10ª anuidade.

05/23/2017

RPI 2420

Retificação de publicação

#3.8

Referente ao despacho publicado na RPI nº 1939 de 04/03/2008 quanto ao item (72).

10/11/2011

RPI 2127

Publicação do pedido de patente

#3.1

03/04/2008

RPI 1939

Pedido de patente depositado

#2.1

10/30/2007

RPI 1921

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