Application data
Number
PI0621116Type
Filing
Publication
PCT
US2006048980 The patent was granted on 12/05/2017 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 02/24/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
COVATION INC.
US
DUPONT INDUSTRIAL BIOSCIENCES USA, LLC
US
EIDP INC.
US
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
US
Inventors
C. G. (pessoa física)
US
D. G. (pessoa física)
US
E. B. (pessoa física)
US
G. W. (pessoa física)
US
G. P. (pessoa física)
US
J. E. (pessoa física)
US
R. T. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
60/752,481 · 12/21/2005
Abstract
PROCESSO CONTÍNUO DE PRODUÇÃO DE POLI(TEREFTALATO DE TRIMETILENO). A presente invenção refere-se a processo contínuo de produção de poli(tereftalato de trimetileno), em que subproduto de 1,3-propanodiol gasoso resultante do processo é condensado em condensador, a quantidade total de qualquer dímero cíclico de tereftalato de trimetileno e poli(tereftalato de trimetileno) no subproduto condensado de 1 3-propanodiol é ajustada e parte do subproduto condensado é reciclada para o condensador enquanto outra parte é reciclada de volta para o processo.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2860 de 28-10-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
02/24/2026
RPI 2877
#21.6
Referente à 19ª anuidade.
10/28/2025
RPI 2860
#25.1
12/10/2024
RPI 2814
#25.1
11/26/2024
RPI 2812
#25.4
11/12/2024
RPI 2810
#25.7
10/29/2024
RPI 2808
#24.4
11/14/2023
RPI 2758
#21.6
Referente à 17ª anuidade.
10/17/2023
RPI 2754
Ref. RPI 2448 de 05/12/2017 quanto ao item (72).
12/19/2017
RPI 2450
#16.1
12/05/2017
RPI 2448
10/31/2017
RPI 2443
#9.1
08/22/2017
RPI 2433
#6.1
06/13/2017
RPI 2423
#1.3
11/29/2011
RPI 2134
#1.1
08/16/2011
RPI 2119
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