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PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE UMA MEMBRANA DE SEPARAÇÃO DE GASES, MEMBRANA QUE COMPORTA UMA CAMADA MICROPOROSA DE SÍLICA DOPADA POR BORO, MEMBRANA APROPRIADA PARA A SEPARAÇÃO DE GASES, USO DE UMA MEMBRANA E INSTALAÇÃO NUCLEAR

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · FR2006002858

Application data

Number

PI0621103

Type

Invention Patent

Filing

12/22/2006

Publication

11/29/2011

PCT

FR2006002858

Progress at the INPI

  1. Filing12/22/06
  2. Publication11/29/11
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 02/14/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. N. (pessoa física)

FR

CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (C.N.R.S.)

FR

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Inventors

A. J. (pessoa física)

FR

B. S. (pessoa física)

FR

C. B. (pessoa física)

FR

D. C. (pessoa física)

FR

Technical data

IPC Classification

Priority claims

FR

0513150 · 12/22/2005

Abstract

PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE UMA MEMBRANA DE SEPARAÇÃO DE GASES, MEMBRANA QUE COMPORTA UMA CAMADA MICROPOROSA DE SÍLICA DOPADA POR BORO, MEMBRANA APROPRIADA PARA A SEPARAÇÃO DE GASES, USO DE UMA MEMBRANA E INSTALAÇÃO NUCLEAR. A presente invenção tem por objeto um processo de preparação de uma membrana de separação de gases, que compreende o depósito de um filme a partir de um sol de sílica sobre um suporte poroso, e o tratamento térmico do filme assim depositado, em que o sol de sílica depositado é preparado hidrolisando um alcóxido de silício em presença de uma quantidade dopante de um precursor de um óxido de um elemento trivalente, em particular o boro ou o alumínio. A presente invenção trata, ainda, das membranas tais como obtidas de acordo com esse processo, bem como de seus usos, em particular para a separação de hélio ou de hidrogênio em temperatura elevada, e em particular para a eliminação de impurezas em fluxos de hélio.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2390 de 25-10-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

02/14/2017

RPI 2406

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 10ª anuidade.

10/25/2016

RPI 2390

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/29/2011

RPI 2134

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/16/2011

RPI 2119

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