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Official data from INPI

CONJUNTO DE NANOFIOS DE ALTA DENSIDADE EM UMA MATRIZ VÍTREA, E MÉTODOS PARA A CONSTRUÇÃO DO MESMO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2006046500

Application data

Number

PI0620554

Type

Invention Patent

Filing

12/05/2006

Publication

11/21/2017

PCT

US2006046500

Progress at the INPI

  1. Filing12/05/06
  2. Publication11/21/17
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 04/03/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

ZT3 Technologies, Inc.

US

Inventors

B. D. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

11/299.283 · 12/09/2005

US

11/301.285 · 12/09/2005

Abstract

CONJUNTO DE NANOFIOS DE ALTA DENSIDADE EM UMA MATRIZ VÃTREA, E MÃTODOS PARA A CONSTRUÃÃO DO MESMO. A presente invenção provê um método para projetar e fabricar um material ativo termoeletricamente (22) em um núcleo condutor de vidro (14), compreendendo uma extremidade vedada de um tubo de vidro (14) de modo que o tubo (14) tenha uma extremidade aberta e uma extremidade fechada, introduzindo o material ativo termoeletricamente (22) no interior do tubo de vidro (14) e evacuando o tubo (14) pela fixação da extremidade aberta à uma bomba de vácuo, aquecendo uma parte do tubo de vidro (14) de modo que o vidro parcialmente se funda e derreta sob o vácuo de modo que o tubo de vidro parcialmente fundido (14) provenha uma ampola (54) contendo o material termoelétrico (22) a ser usado em uma primeira operação de construção, introduzindo a ampola (54) contendo o material termoelétrico (22) em um dispositivo de aquecimento (10), aumentando a temperatura no interior do dispositivo de aquecimento (10) de modo que o tubo de vidro (14) se derreta e derreta o suficiente para que ele se prolongue e forme fibras (24) alternativas do vidro do material ativo termoeletricamente (22).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2448 de 05-12-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

04/03/2018

RPI 2465

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 7ª, 8ª, 9ª, 10ª e 11ª anuidades.

12/05/2017

RPI 2448

15.9

Perda das prioridades US 11/299,283 e US 11/301,285 reivindicadas no PCT/US2006/046500,conforme as disposições previstas na Lei 9.279 de 14/05/1996 (LPI) art. 16 § 7°, item 28 do AtoNormativo 128/97 e no art. 29 da Resolução INPI-PR 77/2013. Estas perdas se deram pelo fatode o depositante constante da petição de requerimento do pedido PCT (“ZT3 Technologies,Inc”) ser distinto daquele que depositou as prioridades reivindicadas e não foram apresentadosdocumentos comprobatórios de cessão, conforme as disposições previstas na Lei 9.279 de14/05/1996 (LPI) art. 16 § 6°, item 27 do Ato Normativo 128/97 e no art. 2 da Resolução INPIPR179/2017.

11/28/2017

RPI 2447

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/21/2017

RPI 2446

6.8

O despacho 6.7 está sendo anulado tendo por base a determinação do Diretor de Patentes, a qual é calcada no parecer nº 0003-2014 – AGU/PGF/PFE/INPI/COOPHI-LBC-1.0.

11/14/2017

RPI 2445

11.13

O despacho 11.6.1 está sendo anulado tendo por base a determinação do Diretor de Patentes, a qual é calcada no parecer nº 0003-2014 – AGU/PGF/PFE/INPI/COOPHI-LBC-1.0.

11/07/2017

RPI 2444

11.6.1

Referente a petição nº 18080035713/SP de 09/06/2008.

01/02/2013

RPI 2191

6.7

Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.

02/22/2012

RPI 2146

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/16/2011

RPI 2119

Patent monitoring

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