Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
09/27/2016
RPI 2386
Application data
Number
PI0617386Type
Filing
Publication
PCT
EP2006067351 The application was refused on 09/27/2016 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/27/2016. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
C. A. (pessoa física)
FR
Europlasma
FR
Inventors
J. S. (pessoa física)
FR
M. L. (pessoa física)
FR
M. B. (pessoa física)
FR
P. G. (pessoa física)
FR
S. R. (pessoa física)
FR
U. M. (pessoa física)
FR
IPC Classification
Priority claims
FR
0553128 · 10/14/2005
Abstract
DISPOSITIVO DE GASEIFICAÇÃO POR UM PLASMA TÉRMICO DE MATÉRIA PARA A GERAÇÃO DE UM GÁS DE SINTESE DE ALTA QUALIDADE E PROCESSO DE GASEIFICAÇÃO DE MATÉRIA A invenção se refere a um dispositivo de gaseificação de matéria que compreende: - um recinto (1) de mistura de um plasma e de matéria a tratar, que compreende aberturas (12, 12', 13, 13', 14) para posicionar meios de injeção de um fluxo da dita matéria e para posicionar pelo menos uma fonte de plasma, e que formam uma zona (300) de mistura homogénea de um fluxo da dita matéria e de pelo menos uma lança de plasma (200, 200'), - uma zona de reação (5a, 5b), de uma mistura da dita matéria e do plasma, em comunicação com uma abertura do recinto e que se estende de maneira axial.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
09/27/2016
RPI 2386
#9.2
Indefiro o pedido de acordo com o(s) artigo(s) 8º, 11 e 13 da LPI.
05/31/2016
RPI 2369
#7.1
12/08/2015
RPI 2344
#1.3
07/26/2011
RPI 2116
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