Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2257 de 08/04/2014.
08/12/2014
RPI 2275
Application data
Number
PI0611310Type
Filing
Publication
PCT
US2006020941 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/12/2014. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
T. A. (pessoa física)
US
Inventors
D. D. (pessoa física)
US
R. R. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
11/139,690 · 05/31/2005
Abstract
MÉTODOS DE PREPARAÇÃO DE LÂMINAS E FILMES DE ALTA ORIENTAÇÃO CONTENDO NANOPARTÍCULAS ATRAVÉS DA UTILIZAÇÃO DE LÍQUIDOS IÔNICOS, E AS LÂMINAS E OS FILMES PRODUZIDOS POR ESTES. A presente invenção se refere a um método para a preparação de nanomateriais, que envolve e dissolução e/ou suspensão de uma combinação de (a) um ou mais materiais de substrato de resina e (b) uma ou mais substâncias de nanopartículas magnéticas, em um meio feito a partir de um ou mais líquidos iônicos, para prover uma mistura, e a recuperação do nanomaterial sólido através da combinação da mistura com um não-solvente (solvente para os líquidos iônicos, mas não para os outros componentes), enquanto também se aplica um campo eletromagnético à mistura durante a etapa de recuperação para alinhar as substâncias de nanopartículas magnéticas, em conjunto com a utilização dos nanomateriais resultantes para prover meios de armazenamento de informação únicos, particularmente na forma de lâminas ou filmes.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2257 de 08/04/2014.
08/12/2014
RPI 2275
#8.6
Referente à 8ª anuidade.
04/08/2014
RPI 2257
#1.3
04/19/2011
RPI 2102
Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.
11/09/2010
RPI 2079
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