Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
07/05/2011
RPI 2113
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Official data from INPI
PADRONIZAÇÃO FOTOLITOGRÁFICA DE MATERIAIS POLIMÉRICOS
ArquivadaInvention PatentPCT · AU2006000201
Application data
Number
PI0607463Type
Invention Patent
Filing
02/15/2006
Publication
09/08/2009
PCT
AU2006000201 Progress at the INPI
- Filing02/15/06
- Publication09/08/09
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 02/15/2006 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 07/05/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
RPO PTY LIMITED
AU
Inventors
D. K. (pessoa física)
AU
R. C. (pessoa física)
AU
Technical data
Priority claims
US
60/653,346 · 02/15/2005
Abstract
PADRONIZAÇÃO FOTOLITOGRÁFICA DE MATERIAIS POLIMÉRICOS. A invenção compreende métodos para a padronização fotolitográfica de aspectos em uma composição de polímero fotocurável revestida sobre um substrato de plástico. Em uma modalidade desta invenção, o substrato de plástico é revestido com um filme refletivo, tal como uma barreira metálica. Em uma outra modalidade, o substrato de plástico é revestido ou co-extrudado com uma camada de barreira de polimero contendo um aditivo que absorve a radiação de fotocura. Ainda em uma outra modalidade, o substrato de plástico contém um aditivo intrínseco que absorve a radiação de fotocura. Combinações destas modalidades também estão no escopo desta invenção. Os métodos da presente invenção podem ser vantajosamente aplicados à fabricação de guias de onda ôticas compreendendo um polímero fotocurável suportado sobre um substrato de plástico, mas são aplicáveis à fabricação de qualquer dispositivo ou objeto compreendendo um polímero fotocurável suportado sobre um substrato de plástico.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
01/04/2011
RPI 2087
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
09/08/2009
RPI 2018
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