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Official data from INPI

ESTUFA DE MÚ LTIPLOS PROCESSOS

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0604624

Type

Invention Patent

Filing

10/20/2006

Publication

06/10/2008

Progress at the INPI

  1. Filing10/20/06
  2. Publication06/10/08
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/16/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. N. (pessoa física)

DF, BR

E. B. (pessoa física)

DF, BR

P. G. (pessoa física)

DF, BR

Inventors

A. N. (pessoa física)

BR

E. B. (pessoa física)

BR

P. G. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

ESTUFA DE MÚLTIPLOS PROCESSOS. A presente invenção permite que a indústria possa utilizar apenas um equipamento para produção em bateladas, realizando vários processos e utilizando todo o aparato, para as diversas e citadas tecnologias otimizando a produção e baixando custos. Com a finalidade de secar e desidratar diversos produtos em um único equipamento além de granular, microencapsular e revestir matérias primas a "Estufa de Múltiplo Processos" tem sua estrutura modular composta de um rack (FIGURA 1), que é comum a todos os processos, os acessórios que são acoplados ao mesmo, conforme cada processo específico, tais como Câmara de Secagem por Aspersão Rotativa (FIGURA 5), Câmara de Secagem por Fluidez (FIGURA 6) e Câmara de Secagem por Circulação de Ar Forçado e Vácuo (FIGURA 7).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2160 de 29/05/2012.

10/16/2012

RPI 2180

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 4ª e 5ª anuidades.

05/29/2012

RPI 2160

Publicação do pedido de patente

#3.1

06/10/2008

RPI 1953

Pedido de patente depositado

#2.1

12/26/2006

RPI 1877

Patent monitoring

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