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Official data from INPI

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE PÓ DE ALUMINA ALFA VIA ALUMINA GAMA ADITIVADA APROPRIADO PARA A FABRICAÇÃO DE SUBSTRATOS CERÂMICOS USADOS NA CONSTRUÇÃO DE FOTORESISTORES (COMPONENTES LDR)

Em AnáliseInvention Patent

Application data

Number

PI0600630

Type

Invention Patent

Filing

02/24/2006

Publication

09/16/2008

Progress at the INPI

  1. Filing02/24/06
  2. Publication09/16/08
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/16/2008. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

C. N. (pessoa física)

RJ, BR

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Inventors

A. S. (pessoa física)

BR

L. S. (pessoa física)

BR

S. M. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE PÓ DE ALUMINA ALFA VIA ALUMINA GAMA ADITIVADA APROPRIADO PARA A FABRICAÇÃO DE SUBSTRATOS CERÂMICOS USADOS NA CONSTRUÇÃO DE FOTORESISTORES (COMPONENTES LDR). A presente invenção diz respeito a um processo de produção de pó de alumina alfa via alumina gama aditivada. Este processo envolve: fusão alcalina de uma fonte comercial e barata de alumina hidratada; obtenção de uma solução de aluminato - silicato de sódio; neutralização com HNO~ 3~; envelhecimento; lavagem; secagem; moagem; calcinação (600 °C); peptização; adsorção de Ca e/ou Mg e/ou Zr; secagem; e calcinação (600 °C e 1000 °C). Pós obtidos com 90,40% de A1~ 2~O~ 3~, 6,70% de SiO~ 2~, 1,75% de CaO, 1,07% de ZrO~ 2~, ?0,03% de MgO, 0,04% de Fe~ 2~O~ 3~ e 0,03% de Na~ 2~O; com 95,13% de A1~ 2~0~ 3~, 2,07% de SiO~ 2~, 1,70% de CaO, 1,03% de ZrO~ 2~, ?0,03% de MgO, 0,04% de Fe~ 2~O~ 3~ e 0,03% de Na~ 2~O; e com 99,80% de A1~ 2~O~ 3~, ?0,06% de SiO~ 2~, ?0,03% de CaO, ?0,01% de ZrO~ 2~, ?0,02% de MgO, 0,03% de Fe~ 2~O~ 3~ e 0,04% de Na~ 2~O sinterizam a altas densidades, respectivamente, a 1450 °C/4 horas, 1550 °C/4 horas e ??1625 °C/4 horas. Campo de aplicação: - material abrasivo; -fabricação de suportes de catalisadores empregados na conversão de gases automotivos; e - conformação de corpos cerâmicos de alta densidade, do tipo substratos cerâmicos para construção de fotoresistores (componentes LDR), os quais têm grande aplicação na indústria optoeletrônica.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Publicação do pedido arquivado definitivamente

#3.6

09/16/2008

RPI 1967

Arquivamento do pedido - Art. 216 §2° da LPI

#11.6

07/08/2008

RPI 1957

6.7

Baseado no artigo 216 § 1° da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.

11/20/2007

RPI 1924

Pedido de patente depositado

#2.1

05/02/2006

RPI 1843

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