Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
09/21/2010
RPI 2072
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Official data from INPI
PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE SUBSTRATOS REVESTIDOS POR MAGNETRON E FONTE DE PULVERIZAÇÃO POR MAGNETRON
ArquivadaInvention PatentPCT · CH2005000441
Application data
Number
PI0516204Type
Invention Patent
Filing
07/26/2005
Publication
08/26/2008
PCT
CH2005000441 Progress at the INPI
- Filing07/26/05
- Publication08/26/08
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 07/26/2005 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/21/2010. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
OC Oerlikon Balzers AG
LI
Inventors
J. W. (pessoa física)
DD
Technical data
IPC Classification
Priority claims
CH
1578/04 · 09/28/2004
Abstract
PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE SUBSTRATOS REVESTIDOS POR MAGNETRON E FONTE DE PULVERIZAÇÃO POR MAGNETRON. A presente invenção refere-se à operação de pulverização, se ajustar a distribuição da taxa de pulverização ao longo da área de pulverização (3s) em uma fonte de magnetron, é correspondentemente variada a distância de uma parte (7~ a1~, 7~ b1~) da disposição magnética (7~ a~, 7~ b~) no lado traseiro de alvo (3~ R~).
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
05/11/2010
RPI 2053
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
08/26/2008
RPI 1964
6.7
Esclareça o depositante a divergência existente no nome do depositante entre a petição inicial e a publicação WO2006/034598 de 06/04/2006.
09/04/2007
RPI 1913
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