Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2160 de 29/05/2012.
10/16/2012
RPI 2180
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Official data from INPI
SISTEMA DE LIBERAÇÃO, COMPOSIÇÃO PARA APLICAÇÃO TÓPICA EM PELE OU PÊLO DE MAMÍFERO, E, MÉTODO PARA TRATAR PELE DE MAMÍFERO
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2005032749
Application data
Number
PI0515888Type
Invention Patent
Filing
09/13/2005
Publication
08/12/2008
PCT
US2005032749 Progress at the INPI
- Filing09/13/05
- Publication08/12/08
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/16/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Lipo Chemicals, INC.
US
Inventors
N. D. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
60/613,034 · 09/24/2004
Abstract
"SISTEMA DE LIBERAÇÃO, COMPOSIÇÃO PARA APLICAÇÃO TÓPICA EM PELE OU PÊLO DE MAMÍFERO, E, MÉTODO PARA TRATAR PELE DE MAMÍFERO". Revela-se um sistema de liberação para compostos aplicados topicamente. O sistema de liberação contém um ácido graxo, um fosfolipídeo, e um óleo, e é ativado por meio da adição de água. O sistema de liberação é misturado com um composto aplicado topicamente e água para proporcionar uma composição apropriada para aplicação sobre a pele ou os pêlos. As quantidades relativas dos ingredientes do sistema de liberação proporcionam vesículas flexíveis que permitem penetração do composto aplicado topicamente na epiderme e na derme, vesículas completamente rompidas em forma de folhas lamelares que permitem que o composto aplicado topicamente seja retido no estrato córneo, e misturas dos mesmos.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às 5ª e 6ª anuidades.
05/29/2012
RPI 2160
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
08/12/2008
RPI 1962
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