MÉTODO PARA FABRICAR UM SENSOR DE IMAGEM, E, SENSOR DE IMAGEM

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Abstract

MÉTODO PARA FABRICAR UM SENSOR DE IMAGEM, E, SENSOR DE IMAGEM A invenção é relativa a um método para fabricar um sensor de imagem iluminado pelo lado de trás (14), que compreende as etapas de: começando com uma pastilha (2) que tem uma primeira (3) e uma segunda (4) superficies, fornecer regiões de pixel sensíveis à luz (5) que se estendem na pastilha (2) a partir da primeira superfície (3), prender a pastilha (2) sobre um substrato protetor (7) de tal modo que a primeira superfície (3) faceia o substrato protetor, a pastilha compreendendo um substrato de um primeiro material (8) com uma camada ótica transparente (9) e uma camada de material semicondutor (10) na qual o substrato (8) é removido de maneira seletiva da camada de material semicondutor utilizando a camada transparente ótica (9) como camada de interrupção. Para sensores de imagem iluminados pelo lado de trás, luz deve transmitir através da camada semicondutora e penetrar nas regiões de pixel sensíveis à luz (5). Para reduzir perdas de absorção é muito vantajoso que a camada de semicondutor (10) possa é feita relativamente fina com uma boa uniformidade. Devido à espessura reduzida da camada de semicondutor, mais luz pode penetrar nas regiões sensíveis à luz, resultando em um rendimento melhorado do sensor de imagem.