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MÉTODO DE FABRICAÇÃO DE UM DISPOSITIVO ELETRÔNICO MOLECULAR, SUBSTRATO PARA UM DISPOSITIVO ELETRÔNICO MOLECULAR, E, DISPOSITIVO ELETRÔNICO MOLECULAR

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · GB2005000429

Application data

Number

PI0507385

Type

Invention Patent

Filing

02/07/2005

Publication

07/10/2007

PCT

GB2005000429

Progress at the INPI

  1. Filing02/07/05
  2. Publication07/10/07
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 08/04/2015. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Cambridge Display Technology Ltd

GB

Inventors

H. G. (pessoa física)

GB

J. C. (pessoa física)

GB

M. C. (pessoa física)

ES

Technical data

IPC Classification

Priority claims

GB

0402559.9 · 02/05/2004

Abstract

MÉTODO DE FABRICAÇÃO DE UM DISPOSITIVO ELETRÔNICO MOLECULAR, SUBSTRATO PARA UM DISPOSITIVO ELETRÔNICO MOLECULAR, E, DISPOSITIVO ELETRÔNICO MOLECULAR A invenção geralmente de refere a métodos aperfeiçoados de fabricação de dispositivos eletrônicos moleculares, em particular dispositivos eletrônicos orgânicos, tais como diodos de emissão de luz orgânicos (OLEDs), por meio de técnicas de deposição de gotícula, como impressão a jato de tinta. A invenção também se refere a substratos de dispositivo molecular por meio e/ou uso de tais métodos. Um método de fabricação de um dispositivo eletrônico molecular, o método compreendendo: fabricar um substrato tendo uma pluralidade de bancos definindo poços para a deposição de material molecular; e depositar material eletrônico molecular nos referidos poços, dissolvido em um solvente, usando uma técnica de deposição de gotícula, para fabricar o referido dispositivo; em que um referido banco tem uma face, definindo uma borda do referido poço, em um ângulo com relação a uma base do poço maior do que um ângulo de contato do referido solvente com a referida face de banco; e em que uma altura de um referido banco acima de uma referida base de um referido poço é menor do que 2 m, e mais preferivelmente menor do que 1,5 m.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2308 de 31/03/2015.

08/04/2015

RPI 2326

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 10ª anuidade.

03/31/2015

RPI 2308

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/10/2007

RPI 1905

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