Official data from INPI

CATODO PARA PULVERIZAÇÃO SOB VÁCUO

IndeferidaInvention Patent

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Application data

Number

PI0500021

Type

Invention Patent

Filing

01/10/2005

Publication

09/05/2006

View on INPI

Progress at the INPI

Filing01/10/05
Publication09/05/06
Examination
Refused12/01/20
Grant
In force

The application was refused on 12/01/2020 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/01/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Tecmachine

Inventors

L. L. (pessoa física)

M. A. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

C23C 14/34 C23C 14/56

Abstract

"CATODO PARA PULVERIZAÇÃO SOB VÁCUO". O catodo para pulverização sob vácuo cujo suporte de alvo (2) é constituído por um resfriador é notável pelo fato de que ele compreende uma base de sustentação (3) sobre a qual é superposto um quadro (11) que delimita pelo menos um espaço vazio (1a) para a circulação de um fluido de resfriamento, o dito quadro (11) recebendo em superposição uma membrana (4), a base (3), o quadro (11) e a membrana (4) sendo unidos juntos na periferia.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL

12/01/2020

RPI 2604

Indeferimento

#9.2

09/15/2020

RPI 2593

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

05/12/2020

RPI 2575

Exigência preliminar (variante)

#6.22

12/17/2019

RPI 2554

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

01/29/2019

RPI 2508

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/05/2006

RPI 1861

Pedido de patente depositado

#2.1

02/15/2005

RPI 1780

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