BANHO ÁCIDO PARA DEPOSITAR ELETROLITICAMENTE UM DEPÓSITO DE COBRE CONTENDO COMPOSTOS DE FENAZÍNIO MONOMÉRICOS HALOGENADOS OU PSEUSO-HALOGENADOS

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Abstract

"BANHO ÁCIDO PARA DEPOSITAR ELETROLITICAMENTE UM DEPÓSITO DE COBRE CONTENDO COMPOSTOS DE FENAZÍNIO MONOMÉRICOS HALOGENADOS OU PSEUDO-HALOGENADOS". A presente invenção refere-se a compostos de fenazínio monoméricos halogenados ou pseudo-halogenados com uma pureza de, pelo menos, 85 moles % e com a fórmula química geral I, caracterizados por R^ 1^, R^ 2^, R^ 4^, R^ 5^, R^ 6^, R^ 7 ^, R7^ 7 ^, R^ 8^, R^ 9^, X e A^ _^ terem os significados denotados nas reivindicações, são utilizados para fabricação de revestimentos de cobre particularmente uniformes e com brilho de espelho que sejam nivelados e dúcteis, assim como é utilizada uma densidade de corrente relativamente alta. Os compostos são preparados pela diazotização de um composto de partida adequado antes da halogenação ou pseudo- halogenação na presença de um ácido mineral, meio de diazotização e haleto e pseudo-haleto, ocorrendo as etapas de reação em um vaso de reação individual.