METALIZAÇÃO DE SUBSTRATO(S) POR UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO LÍQUIDO/VAPOR

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Abstract

"METALIZAÇÃO DE SUBSTRATO(S) POR UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO LÍQUIDO/VAPOR". Um processo para deposição de uma camada metálica conformal, substancialmente pura em um ou mais substratos através da decomposição de um ou mais precursores contendo metal. Durante esse processo de deposição o(s) substrato(s) é(são) mantido(s) a uma temperatura maior que a temperatura de decomposição do precursor enquanto a atmosfera circundante é mantida a uma temperatura menor que a temperatura de decomposição do precursor. O precursor é disperso dentro de um meio de transporte, por exemplo, uma fase vapor. A concentração do(s) precursor(es) contendo metal na fase vapor, que também contém líquido, pode estar a um nível que forneça condições de saturação, ou próximas dela, para o(s) precursor(es) metálico(s). Garantindo-se o controle de temperatura anteriormente mencionado entre o meio de transporte e o substrato, e mantendo-se as condições de saturação para o meio de transporte, a qualidade da película fina depositada é notadamente melhorada e a produção do subproduto poeira metálica é grandemente reduzida ou substancialmente eliminada.